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表面及び物理解析手法と調査事例


【報告順序】
  1. 分析装置の紹介
  2. 分析法の比較
  3. AESでの分析試料と事例
  4. XPSでの分析試料と事例
  5. EPMAでの分析試料と事例
  6. まとめ

 
 分析の原理 
【表面分析装置の比較】
装置外観
装置名称AES
オージェ電子分光装置
XPS
X線光電子分光装置
EPMA
電子線マイクロアナライザ
分析面積
分析深さ
1〜100μm
数10Å
0.1〜数mm
数10Å
100μm〜30mm
数μm
得られる
情報
表面元素分析
微小部分析
深さ方向分析
表面元素分析
状態分析
深さ方向分析
構成元素分析
カラーマッピング

【各分析のまとめ】
AES:オージェ電子分光装置
極表面の定性分析、深さ方向分析、最小 1μmの微小部分析などが可能である。
(分析例)ステンレス鋼を加熱後、表面より深さ方向分析をすると酸化皮膜厚さに大きな差があり、また表面直下のFe,Crの濃度変化が明確になった。
XPS:X線光電子分光装置
極表面の定性分析、元素の結合状態分析、深さ方向分析などが可能である。
(分析例)ステンレス鋼を硝酸処理後、深さ方向分析を行うと表面にCr濃化しており、さらに状態分析を行うとCrが水酸基と結合していることが分かった。
EPMA:電子線マイクロアナライザ
元素の濃度分布をカラーマッピング表示することが可能である。
(分析例)ステンレス鋼の厚い酸化皮膜の断面方向面分析により、広範囲の元素濃度分布を明確に表示できた。
 

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